Mentor工具简介
http://hi.baidu.com/hieda/blog/item/c1dc23ee505a25f8b2fb95e3.html Calibre物理验证系列 〓 Calibre DRC 作为工作在展平模式下的设计规则检查（DRC）工具，Calibre DRC先展平输入数据库，然后对展平的几何结果进行操作。 〓 Calibre DRC-H 作为Calibre DRC的选项，Calibre DRC-H确保层次化的DRC成为可能，层次化设计规则检查维持数据库的层次化结构，并且充分利用设计数据的层次化关系减少数据处理时间、内存使用和DRC检查结果数量。对于确定类型的芯片而言，DRC-H要比在展平模式下的Calibre快几个数量级。层次化处理对于0.35μm或以下工艺，规模达到或者超过百万晶体管的芯片设计优势更加明显。Calibre DRC-H通常可以和设计规则检查(DRC)以及光学工艺校正(OPC)配合使用。 〓 Calibre LVS 作为Mentor Graphics公司工作在展平模式下的版图与原理图对照（LVS）工具，Calibre LVS先展平输入数据库，然后对展平的几何结果进行操作。 〓 Calibre LVS-H 作为Calibre LVS的选项，Calibre LVS-H确保层次化的LVS成为可能，层次化版图与原理图对照维持数据库的层次化结构